Четвертая международная конференция «Достижения Китайской Электронной промышленности в производстве высоконадежной ЭКБ»
|
Институт космических исследований Российской академии наук (ИКИ РАН) совместно с компанией ООО «Эпсилон» (г.Санкт-Петербург),
при участии Китайской Промышленной Корпорации «Великая стена» (КПК «Великая стена»), Китайской Академии Аэрокосмических Электронных
Технологий (CAAET), Чжухайской компании Аэрокосмической науки и техники «Орбита» и Китайской Корпорации Электронных Технологий (CETC)
планирует проведение Четвертой международной конференции «Достижения Китайской Электронной промышленности в производстве высоконадежной ЭКБ».
Конференция состоится 29 - 31 мая 2018 г. в г. Москве на территории ИКИ РАН (м. «Калужская»).
В программе конференции:
- доклады ведущих специалистов китайских предприятий о последних научных достижениях в сфере высоконадежных электронных компонентов, методах их проектирования и повышения радиационной стойкости, опыте эксплуатации и практических применениях;
- демонстрация альтернативы ограниченным в поставке американским и европейским ЭРИ, продукции выпускаемой Китайской
электронной промышленностью, среди прочих: ПЛИС, высокоскоростные АЦП и ЦАП, N- и P-канальные транзисторы, DC-DC преобразователи,
микросхемы памяти FLASH, MRAM и других типов, синтезаторы с PLL, МШУ, усилители мощности (GaN, GaAs), ГУН, СВЧ переключатели и пр.
На конференцию приглашаются технические специалисты для ознакомления с образцами продукции, получения информации и обсуждения вопросов по
серийно производимой продукции и продукции, находящейся в разработке.
Участие в конференции - БЕСПЛАТНОЕ.
Для участия в конференции, необходимо направить в адрес ИКИ РАН список с указанием Ф.И.О. участников (полностью) и их должности. Заявки можно отправить по факсу: (495) 333-12-48, а также на электронный адрес: saprikina@iki.rssi.ru
Контактное лицо по организационным вопросам – Сапрыкина Лилия Викторовна, тел.: (495) 333-44-12, 8-(903)-510-20-02.
Программа конференции (PDF-файл)
|
|